Діокси́д кре́мнію, силі́цій(IV) окси́д (кремнезем, SiO2) (англ. silica, нім. Siliziumdioxid n) — сполука ковалентної природи.
Діоксид кремнію | |
Маса | 1,0E−25 кг[1] |
---|---|
Хімічна формула | SiO₂[1] |
Канонічна формула SMILES | O=[Si]=O[1] |
Температура плавлення | 3110 ± 1 ℉[2] |
Точка кипіння | 4046 ± 1 ℉ |
Тиск насиченої пари | 0 ± 1 mm Hg |
Розчинність | 0,12 g/dm³[3] і 0,9 g/dm³[4] |
Класифікація та маркування безпеки | NFPA 704: Standard System for the Identification of the Hazards of Materials for Emergency Response[d] |
Наявний у таксона | d, P. edulis[6], d, E. telmateia і E. arvense |
Ідентифікатор NCI Thesaurus | C29853[8] |
Діоксид кремнію у Вікісховищі |
Загальний опис
Найвідоміший мінерал — кварц, що має вигляд безбарвних кристалів із tпл 1713–1728 °C та високою твердістю і міцністю. При високих температурах діокси́д кре́мнію існує в молекулярному вигляді. Молекула SiO2 має лінійну форму, довжини зв'язків Si-O 1.495 Å. Є надзичайно реакційноздатною, тому зафіксована лише спектроскопічно. Втім, методами матричної ізоляції зафіксовано димер (SiO2)2 та тример (SiO2)3, що мають, відповідно, симетрії D2h та D3h.
Кремнезем — один з найважливіших і найпоширеніших мінералів кремнію. Формула: SiO2. У природі буває у вигляді кварцу, гірського кришталю тощо. Крім того під терміном кремнезем часто розуміють будь-яку поліморфну модифікацію діоксиду кремнію.
Діоксид кремнію зустрічається в природі головним чином у вигляді мінералу кварцу. Це дуже тверда речовина з температурою плавлення 1728 °С. Великі прозорі і безбарвні кристали природного кварцу називають гірським кришталем. Кварц входить до складу багатьох гірських порід, наприклад граніту, гнейсу тощо. Звичайний пісок складається з дрібненьких кристалітів кремнезему. Пісок, що складається з чистого кварцового скла, зветься кварцовим і використовується в промисловості, зокрема, для добування металічного кремнію. У чистому вигляді пісок має білий колір, але здебільшого він буває забарвлений домішками сполук заліза в жовтуватий колір.
Інколи діоксид кремнію зустрічається в природі в аморфному стані. Таку речовину називають трепелом, або інфузорною землею. Місцями трепел утворює значні поклади, які виникли з залишків деяких водоростей, до складу яких входить діоксид кремнію.
У хімічному відношенні діоксид кремнію є кислотним оксидом — ангідридом силікатної кислоти H2SiO3. Однак з водою SiO2 безпосередньо не взаємодіє, тому силікатну кислоту можна одержати лише посереднім шляхом. Кислоти на SiO2 теж не діють, за винятком фторидної кислоти, яка дуже енергійно реагує з ним:
- SiO2 + 4HF = SiF4↑ + 2H2O
З основними оксидами і твердими лугами при високій температурі SiO2 утворює солі, які називають силікатами, наприклад:
- SiO2 + CaO = CaSiO3
Здатен відновлюватись до моноксиду кремнію при взаємодії з вугіллям чи чистим кремнієм:
- SiO2 + C = SiO + CO
Використання
Діоксид кремнію є природним ізолятором у кремнієвій мікроелектроніці. Тонка плівка діоксиду кремнію утворюється на поверхні напівпровідника при контакті з повітрям і створює необхідні для транзисторів діелектричні шари.
Аморфний непористий діоксид кремнію застосовується в харчовій промисловості як допоміжна речовина E551, що перешкоджає злежуванню та грудкуванню, парафармацевтиці (зубні пасти), у фармацевтичній промисловості як допоміжна речовина (внесений до більшості фармакопей), а також дієтична добавка або лікарський препарат як ентеросорбент.
Див. також
Примітки
- Silica
- Silica, amorphous — Центри з контролю та профілактики захворювань в США.
- https://www.lenntech.com/periodic/water/silicon/silicon-and-water.htm
- http://www.minsocam.org/ammin/AM62/AM62_1052.pdf
- Lucas P. W., Teaford M. F. Significance of silica in leaves to long-tailed macaques (Macaca fascicularis) // Folia Primatologica — Karger Publishers, Brill, 1995. — Vol. 64, Iss. 1-2. — P. 30–36. — ISSN 0015-5713; 1421-9980 — doi:10.1159/000156829
- Lux A., Luxová M., Abe J. та ін. Silicification of bamboo (Phyllostachys heterocycla Mitf.) root and leaf — 2013. — С. 85–91. — doi:10.1007/978-94-017-2923-9_9
- N. Ghassemi, A. Ghanadi A Study on the Morphology and Phytochemlstry of Some Iranian Equisetum Species // Planta Med. — Thieme Medical Publishers (Germany), 2007. — Vol. 59, Iss. S 1. — P. A638–A638. — ISSN 0032-0943; 1439-0221 — doi:10.1055/S-2006-959880
- Global Substance Registration System
- Энтеросорбенты: против отравлений. «Фармацевтический вестник» № 8 (668) Март 06, 2012 г.
Джерела
- Деркач Ф. А. Хімія. — Львів : Львівський університет, 1968. — 312 с.
- Мала гірнича енциклопедія : у 3 т. / за ред. В. С. Білецького. — Д. : Донбас, 2004. — Т. 1 : А — К. — 640 с. — .
Інтернет-ресурси
Вікісховище має мультимедійні дані за темою: Діоксид кремнію |
- Formation of silicon oxide layers in the semiconductor industry [ 14 лютого 2008 у Wayback Machine.]. LPCVD and PECVD method in comparison. Stress prevention.
- Silica (SiO2) and Water [ 7 червня 2010 у Wayback Machine.]
- by C. Soutar and others. Research Report TM/97/09
- by A Pilkington and others. Research Report TM/95/08
Вікіпедія, Українська, Україна, книга, книги, бібліотека, стаття, читати, завантажити, безкоштовно, безкоштовно завантажити, mp3, відео, mp4, 3gp, jpg, jpeg, gif, png, малюнок, музика, пісня, фільм, книга, гра, ігри, мобільний, телефон, android, ios, apple, мобільний телефон, samsung, iphone, xiomi, xiaomi, redmi, honor, oppo, nokia, sonya, mi, ПК, web, Інтернет
Dioksi d kre mniyu sili cij IV oksi d kremnezem SiO2 angl silica nim Siliziumdioxid n spoluka kovalentnoyi prirodi Dioksid kremniyu Masa1 0E 25 kg 1 Himichna formulaSiO 1 Kanonichna formula SMILESO Si O 1 Temperatura plavlennya3110 1 2 Tochka kipinnya4046 1 Tisk nasichenoyi pari0 1 mm Hg Rozchinnist0 12 g dm 3 i 0 9 g dm 4 Klasifikaciya ta markuvannya bezpekiNFPA 704 Standard System for the Identification of the Hazards of Materials for Emergency Response d Nayavnij u taksonad P edulis 6 d E telmateia i E arvense Identifikator NCI ThesaurusC29853 8 Dioksid kremniyu u VikishovishiDyuni z pisku SiO2 Kvarc SkloZagalnij opisNajvidomishij mineral kvarc sho maye viglyad bezbarvnih kristaliv iz tpl 1713 1728 C ta visokoyu tverdistyu i micnistyu Pri visokih temperaturah dioksi d kre mniyu isnuye v molekulyarnomu viglyadi Molekula SiO2 maye linijnu formu dovzhini zv yazkiv Si O 1 495 A Ye nadzichajno reakcijnozdatnoyu tomu zafiksovana lishe spektroskopichno Vtim metodami matrichnoyi izolyaciyi zafiksovano dimer SiO2 2 ta trimer SiO2 3 sho mayut vidpovidno simetriyi D2h ta D3h Kremnezem odin z najvazhlivishih i najposhirenishih mineraliv kremniyu Formula SiO2 U prirodi buvaye u viglyadi kvarcu girskogo krishtalyu tosho Krim togo pid terminom kremnezem chasto rozumiyut bud yaku polimorfnu modifikaciyu dioksidu kremniyu Dioksid kremniyu zustrichayetsya v prirodi golovnim chinom u viglyadi mineralu kvarcu Ce duzhe tverda rechovina z temperaturoyu plavlennya 1728 S Veliki prozori i bezbarvni kristali prirodnogo kvarcu nazivayut girskim krishtalem Kvarc vhodit do skladu bagatoh girskih porid napriklad granitu gnejsu tosho Zvichajnij pisok skladayetsya z dribnenkih kristalitiv kremnezemu Pisok sho skladayetsya z chistogo kvarcovogo skla zvetsya kvarcovim i vikoristovuyetsya v promislovosti zokrema dlya dobuvannya metalichnogo kremniyu U chistomu viglyadi pisok maye bilij kolir ale zdebilshogo vin buvaye zabarvlenij domishkami spoluk zaliza v zhovtuvatij kolir Inkoli dioksid kremniyu zustrichayetsya v prirodi v amorfnomu stani Taku rechovinu nazivayut trepelom abo infuzornoyu zemleyu Miscyami trepel utvoryuye znachni pokladi yaki vinikli z zalishkiv deyakih vodorostej do skladu yakih vhodit dioksid kremniyu U himichnomu vidnoshenni dioksid kremniyu ye kislotnim oksidom angidridom silikatnoyi kisloti H2SiO3 Odnak z vodoyu SiO2 bezposeredno ne vzayemodiye tomu silikatnu kislotu mozhna oderzhati lishe poserednim shlyahom Kisloti na SiO2 tezh ne diyut za vinyatkom ftoridnoyi kisloti yaka duzhe energijno reaguye z nim SiO2 4HF SiF4 2H2O Z osnovnimi oksidami i tverdimi lugami pri visokij temperaturi SiO2 utvoryuye soli yaki nazivayut silikatami napriklad SiO2 CaO CaSiO3 Zdaten vidnovlyuvatis do monoksidu kremniyu pri vzayemodiyi z vugillyam chi chistim kremniyem SiO2 C SiO COVikoristannyaDioksid kremniyu ye prirodnim izolyatorom u kremniyevij mikroelektronici Tonka plivka dioksidu kremniyu utvoryuyetsya na poverhni napivprovidnika pri kontakti z povitryam i stvoryuye neobhidni dlya tranzistoriv dielektrichni shari Amorfnij neporistij dioksid kremniyu zastosovuyetsya v harchovij promislovosti yak dopomizhna rechovina E551 sho pereshkodzhaye zlezhuvannyu ta grudkuvannyu parafarmacevtici zubni pasti u farmacevtichnij promislovosti yak dopomizhna rechovina vnesenij do bilshosti farmakopej a takozh diyetichna dobavka abo likarskij preparat yak enterosorbent Div takozhKremniyeva konkreciya Spisok mineraliv Flint girska poroda Kremniyeva lava MikrokremnezemPrimitkiSilica d Track Q278487 Silica amorphous Centri z kontrolyu ta profilaktiki zahvoryuvan v SShA d Track Q583725 https www lenntech com periodic water silicon silicon and water htm http www minsocam org ammin AM62 AM62 1052 pdf Lucas P W Teaford M F Significance of silica in leaves to long tailed macaques Macaca fascicularis Folia Primatologica Karger Publishers Brill 1995 Vol 64 Iss 1 2 P 30 36 ISSN 0015 5713 1421 9980 doi 10 1159 000156829 d Track Q917031d Track Q72035815d Track Q2204571d Track Q15716662 Lux A Luxova M Abe J ta in Silicification of bamboo Phyllostachys heterocycla Mitf root and leaf 2013 S 85 91 doi 10 1007 978 94 017 2923 9 9 d Track Q105299136 N Ghassemi A Ghanadi A Study on the Morphology and Phytochemlstry of Some Iranian Equisetum Species Planta Med Thieme Medical Publishers Germany 2007 Vol 59 Iss S 1 P A638 A638 ISSN 0032 0943 1439 0221 doi 10 1055 S 2006 959880 d Track Q115784102d Track Q2420769d Track Q7201551 Global Substance Registration System d Track Q116031405 Enterosorbenty protiv otravlenij Farmacevticheskij vestnik 8 668 Mart 06 2012 g DzherelaDerkach F A Himiya Lviv Lvivskij universitet 1968 312 s Mala girnicha enciklopediya u 3 t za red V S Bileckogo D Donbas 2004 T 1 A K 640 s ISBN 966 7804 14 3 Internet resursiVikishovishe maye multimedijni dani za temoyu Dioksid kremniyu Formation of silicon oxide layers in the semiconductor industry 14 lyutogo 2008 u Wayback Machine LPCVD and PECVD method in comparison Stress prevention Silica SiO2 and Water 7 chervnya 2010 u Wayback Machine by C Soutar and others Research Report TM 97 09 by A Pilkington and others Research Report TM 95 08