Ця стаття не містить . (5 серпня 2023) |
Металоорганічна епітаксія з пару (англ. Metalorganic vapour phase epitaxy, MOVPE or metalorganic chemical vapour deposition, MOCVD) - метод отримання матеріалів, в тому числі епітаксіального нарощування напівпровідників, шляхом термічного розкладання (піролізу) металоорганічних сполук, що містять необхідні хімічні елементи. Наприклад, арсенід галію вирощують при використанні триметилгалію ((CH3)3Ga) і трифеніларсену (C6H5 )3As). Сам термін запропонований основоположником методу Гарольдом Манасевітом в 1968 році. На відміну від молекулярно-променевої епітаксії (МПЕ, також використовується термін "молекулярно-пучкова епітаксія" ) зростання здійснюється не у високому вакуумі, а з парогазової суміші зниженого або атмосферного тиску (від 2 до 101 кПа).
Див. також
Це незавершена стаття з технології. Ви можете проєкту, виправивши або дописавши її. |
Вікіпедія, Українська, Україна, книга, книги, бібліотека, стаття, читати, завантажити, безкоштовно, безкоштовно завантажити, mp3, відео, mp4, 3gp, jpg, jpeg, gif, png, малюнок, музика, пісня, фільм, книга, гра, ігри, мобільний, телефон, android, ios, apple, мобільний телефон, samsung, iphone, xiomi, xiaomi, redmi, honor, oppo, nokia, sonya, mi, ПК, web, Інтернет
Cya stattya ne mistit posilan na dzherela Vi mozhete dopomogti polipshiti cyu stattyu dodavshi posilannya na nadijni avtoritetni dzherela Material bez dzherel mozhe buti piddano sumnivu ta vilucheno 5 serpnya 2023 Metaloorganichna epitaksiya z paru angl Metalorganic vapour phase epitaxy MOVPE or metalorganic chemical vapour deposition MOCVD metod otrimannya materialiv v tomu chisli epitaksialnogo naroshuvannya napivprovidnikiv shlyahom termichnogo rozkladannya pirolizu metaloorganichnih spoluk sho mistyat neobhidni himichni elementi Napriklad arsenid galiyu viroshuyut pri vikoristanni trimetilgaliyu CH3 3Ga i trifenilarsenu C6H5 3As Sam termin zaproponovanij osnovopolozhnikom metodu Garoldom Manasevitom v 1968 roci Na vidminu vid molekulyarno promenevoyi epitaksiyi MPE takozh vikoristovuyetsya termin molekulyarno puchkova epitaksiya zrostannya zdijsnyuyetsya ne u visokomu vakuumi a z parogazovoyi sumishi znizhenogo abo atmosfernogo tisku vid 2 do 101 kPa Shema MOCVDDiv takozhCe nezavershena stattya z tehnologiyi Vi mozhete dopomogti proyektu vipravivshi abo dopisavshi yiyi