Джере́ла пла́зми — пристрої, призначені для створення плазми. Створення плазми вимагає щонайменше часткової йонізації нейтральних атомів та/або молекул середовища. У техніці, як правило, для створення плазми використовують ті чи інші види газового розряду.
Джерела плазми високого (від 1000 Па до атмосферного і, рідко, вище) тиску називають плазмотронами або плазмовими пальниками. У них, як правило, плазма утворюється в спеціальній розрядній камері, крізь яку продувається плазмотвірний газ. Найчастіше використовують дуговий або індукційний розряд. Для невеликих потужностей (до декількох кВт) поширені також НВЧ плазмотрони.
Джерела плазми для низьких тисків не мають загальної назви і класифікуються за принципом дії:
- Дугові:
- ;
- ;
- двоступеневий;
- На основі , зокрема, з ;
- :
- з котушкою у формі соленоїда;
- з плоскою котушкою;
- на основі
- [en]
- На основі надвисокочастотного розряду, зокрема з використанням:
- На основі розряду в схрещених полях:
- джерела Голла;
- джерела з анодним шаром.
Джерела плазми мають безліч застосувань, зокрема як джерела світла і для плазмового оброблення матеріалів.
Див. також
Література
- Popov O.A. High Density Plasma Sources: Design, Physics and Performance. — Mill Road, Park Ridge, New Jersey, USA : Noyes Publications, 1995.
- Габович М. Д. Плазменные источники ионов. — К. : Наукова думка, 1964. — 224 с.
- Жуков М.Ф. Электродуговые нагреватели газа (плазмотроны). — М. : Наука, 1973. — 232 с.
- Барченко В.Т. Технологические вакуумно-дуговые источники плазмы. — СПб. : Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2013. — 242 с. — .
- Аксенов И. И. Вакуумная дуга: источники плазмы, осаждение покрытий, поверхностное модифицирование. — К. : Наукова думка, 2012. — 727 с.
- Попов В. Ф., Горин Ю. Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии. — М. : Высш. шк, 1988. — 255 с. — .
- Виноградов М.И., Маишев Ю.П. Вакуумные процессы и оборудование ионно - и электронно-лучевой технологии. — М. : Машиностроение, 1989. — 56 с. — .
Вікіпедія, Українська, Україна, книга, книги, бібліотека, стаття, читати, завантажити, безкоштовно, безкоштовно завантажити, mp3, відео, mp4, 3gp, jpg, jpeg, gif, png, малюнок, музика, пісня, фільм, книга, гра, ігри, мобільний, телефон, android, ios, apple, мобільний телефон, samsung, iphone, xiomi, xiaomi, redmi, honor, oppo, nokia, sonya, mi, ПК, web, Інтернет
Dzhere la pla zmi pristroyi priznacheni dlya stvorennya plazmi Stvorennya plazmi vimagaye shonajmenshe chastkovoyi jonizaciyi nejtralnih atomiv ta abo molekul seredovisha U tehnici yak pravilo dlya stvorennya plazmi vikoristovuyut ti chi inshi vidi gazovogo rozryadu Plazmotron visokogo tisku Dzherela plazmi visokogo vid 1000 Pa do atmosfernogo i ridko vishe tisku nazivayut plazmotronami abo plazmovimi palnikami U nih yak pravilo plazma utvoryuyetsya v specialnij rozryadnij kameri kriz yaku produvayetsya plazmotvirnij gaz Najchastishe vikoristovuyut dugovij abo indukcijnij rozryad Dlya nevelikih potuzhnostej do dekilkoh kVt poshireni takozh NVCh plazmotroni Visokochastotne dzherelo plazmi za nizkogo tisku menshe 1 Pa Dzherela plazmi dlya nizkih tiskiv ne mayut zagalnoyi nazvi i klasifikuyutsya za principom diyi Dugovi dvostupenevij Na osnovi zokrema z z kotushkoyu u formi solenoyida z ploskoyu kotushkoyu na osnovi en Na osnovi nadvisokochastotnogo rozryadu zokrema z vikoristannyam elektronnogo ciklotronnogo rezonansu rozryadu na poverhnevij hvili Na osnovi rozryadu v shreshenih polyah dzherela Golla dzherela z anodnim sharom Dzherela plazmi mayut bezlich zastosuvan zokrema yak dzherela svitla i dlya plazmovogo obroblennya materialiv Div takozhPlazmotron Plazmove obroblennyaLiteraturaPopov O A High Density Plasma Sources Design Physics and Performance Mill Road Park Ridge New Jersey USA Noyes Publications 1995 Gabovich M D Plazmennye istochniki ionov K Naukova dumka 1964 224 s Zhukov M F Elektrodugovye nagrevateli gaza plazmotrony M Nauka 1973 232 s Barchenko V T Tehnologicheskie vakuumno dugovye istochniki plazmy SPb Izd vo SPbGETU LETI 2013 242 s ISBN 978 5 7629 1366 9 Aksenov I I Vakuumnaya duga istochniki plazmy osazhdenie pokrytij poverhnostnoe modificirovanie K Naukova dumka 2012 727 s Popov V F Gorin Yu N Processy i ustanovki elektronno ionnoj tehnologii M Vyssh shk 1988 255 s ISBN 5 06 001480 0 Vinogradov M I Maishev Yu P Vakuumnye processy i oborudovanie ionno i elektronno luchevoj tehnologii M Mashinostroenie 1989 56 s ISBN 5 217 00726 5